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EVE与3M抛光组合对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果及维氏硬度的影响*
作者：陈 卓* 郭震威 刘惠莉 姚海亮
所属单位：郑州大学附属郑州中心医院口腔科 (河南 郑州 450007)
PDF摘要
目的 探究EVE与3M抛光组合对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果及维氏硬度的影响。方法 制备45个规格为15.0mm×10.0mm×4.0mm的IPS e.
max CAD全瓷修复体样本，根据不同的表面处理方法分为3组。G组：上釉处理；3M组：采用Sof- LexTM Discs瓷抛光系统抛光；EVE组：采用EVE
DIAPRO瓷抛光系统抛光。比较各组的表面粗糙度、维氏硬度以及断裂韧性。结果 各组Ra值和断裂韧性从低到高依次为3M组<g组<eve组和eve组<g组 <3m组，且与g组ra值和断裂韧性相比，3m组无显著性差异(p="">0.05)，EVE组有显著性差异(P<0.05)；而各组的维氏硬度无明显差异(P>0.05)。结论 3M抛
光组合对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果明显优于EVE抛光组合，且抛光处理能显著提高IPS e.max CAD全瓷修复体的断裂韧性，3M抛光组合效果更
佳。而不同的抛光工具对IPS e.max CAD全瓷修复体的维氏硬度未产生明显影响。
【关键词】EVE；3M；IPS e.max CAD全瓷修复体；抛光效果；维氏硬度
【中图分类号】 R78
【文献标识码】A
【DOI】10.3969/j.issn.1009-3257.2023.12.037
罕少疾病杂志
第30卷， 第 12 期
2023年12月
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